LB300

레이저 가공기

LB300

레이저 가공기

의료, 반도체 등에 사용되는 난삭재ㆍ취성재의 소형부품을 
고속ㆍ고정도로 가공

절삭가공이나 방전가공에서는 어려운 탄화규소(SiC), 질화갈륨( GaN), 질화규소(Si3N4), 지르코니아(ZrO3), 알루미나(AL2O3), 다이아몬드 소결체(PCD), cBN 등의 난삭재 및 취성재를 고속, 고품위로 가공이 가능합니다.

Technical Specifications

난삭재를 고속ㆍ낮은Cost로 가공
--특화된 가공--
ㆍSiC 등의 취성재의 Hole가공, 형상 가공
ㆍ반도체용 Wafer 등의 얇은 소재 절단
ㆍPCDㆍcBN공구용 Blank소재에서 Chip 제거
ㆍBurr의 발생을 최소한으로 억제한 의료용 부품의 미세가공
ㆍ가공이 어려운 복합소재CFRP, CMC를 고품질로 절단 가능
ㆍ손목시계에 사용되는 미세 Gear, 바늘 등의 소형부품 정밀 가공


Water Jet+Laser가공
물과 공기의 경계면에서의 전반사 현상을 이용하여, 레이저 빔을
재료에 조사하는 기술로 열변형을 억제함과 동시에, Water Jet를 사용한
고효율의 가공 칩 처리가 가능합니다.
(상세 정보 : Water Jet가공의 특징ㆍLaser Head의 특징)
 

Table: 420 x 400 mm
X: 410 +70 mm (*1) Y: 400 mm Z: 200 mm

Rapid Traverse

60000 / 20000 mm/min(X・Y/Z축)

Maximum Workpiece

400 x 300 x 200 mm

Positioning accuracy

X・Y축:±0.001 mm、Z축:±0.015 mm

Repeat positioning accuracy

X・Y軸:±0.001 mm、Z軸:±0.010 mm

Laser oscillator

Nd:YAG

(*1) X축 이동량:410 mm + laser alignment offset 70 mm