LB500

레이저 가공기

LB500

레이저 가공기

항공기, 의료, 반도체 등에 사용되는 난삭재ㆍ취성재의 소형부품을 
고속ㆍ고정도로 가공

절삭가공이나 방전가공에서는 어려운 탄화규소(SiC), 질화갈륨( GaN), 질화규소(Si3N4), 지르코니아(ZrO3), 알루미나(AL2O3), 다이아몬드 소결체(PCD), cBN 등의 난삭재 및 취성재를 고속, 고품위로 가공이 가능합니다.

Technical Specifications

난삭재를 고속ㆍ낮은Cost로 가공
--특화된 가공--
ㆍ경사ㆍ회전 테이블(특별 사양)을 이용한 제트 엔진,
   가스터빈에서 사용되는 터빈 블레이드의 냉각 구멍 가공이나
   비전도성 내열 코팅부의 디퓨저 가공
ㆍSiC 등의 취성재에 대한 Hole 가공, 형상 가공
ㆍ반도체용 Wafer 등의 얇은 소재 절단
ㆍPCDㆍcBN공구용Blank소재에서 Chip 제거
ㆍBurr의 발생을 최소한으로 억제한 의료용 부품의 미세가공
ㆍ가공이 어려운 복합소재CFRP, CMC를 고품질로 절단 가능
ㆍ손목시계에 사용되는 미세 Gear, 바늘 등의 소형부품 정밀 가공

Water Jet+Laser가공
물과 공기의 경계면에서의 전반사 현상을 이용하여, 레이저 빔을
재료에 조사하는 기술로 열변형을 억제함과 동시에, Water Jet를 사용한
고효율의 가공 칩 처리가 가능합니다.
(상세 정보 : Water Jet가공의 특징ㆍLaser Head의 특징)
 

Table: 560 x 500 mm
X: 500 +130 + 130 mm (*1) Y: 400 mm Z: 500 mm

B-Axis

특별사양:-120 ~ +30 ° / ±120 °

C-Axis

특별사양:360 °

Rapid Traverse

60000 mm/min

Maximum Workpiece

500 x 500 x 500 mm

Positioning accuracy

±0.0015 mm(X・Y・Z축)

Repeat positioning accuracy

±0.001 mm(X・Y・Z軸)

Laser oscillator

Nd:YAG

(*1)X축이동량:500 mm + laser alignment offset 130 mm + Touch probe offset 130 mm